Proč se výrazně zvýšila poptávka po izolačním papíru PMP?

Trh s vysoce výkonnými izolačními materiály, vedený energetickou revolucí a nárůstem špičkového výroby, zaznamenal významný růst. Mezi nimi,Izolační papír PMP(Polyimid Film) se stal nenahraditelným základním materiálem v klíčových oblastech, jako je například ultra vysoký napěťový výkonový zařízení, nová energetická vozidla a letecký průmysl s jedinečným komplexním výkonem.

Základní hodnotaIzolační papír PMPleží ve své vynikající toleranci k extrémním prostředí:

„Charlí vysokých teplot“: po dlouhou dobu vydrží vysoké teploty nad 250 ° C a v krátkém časovém období dokonce překročí 400 ° C, což daleko převyšuje limity běžných izolačních materiálů, což zajišťuje bezpečný provoz zařízení za tvrdých podmínek;

„Chemical Shield“: Vykazuje vynikající odolnost vůči silném rozpouštědlem a oleji a olejích, což výrazně prodlouží životnost složek v korozivním prostředí;

„Energetická a elektřina Dual Excellence“: Má jak vysokou mechanickou pevnost, tak stabilní izolační výkon, poskytuje bariéru s dvojitou ochranou ve složitých pracovních podmínkách, jako je vysoké napětí a silné vibrace;

„Lehká a tvrdá rovnováha“: Poměr s vysokou pevností k hmotě poskytuje podporu pro snižování hmotnosti a zlepšení účinnosti přesného zařízení, které je zejména v souladu s potřebami leteckého průmyslu.

Po proudu Applications Applications Drive Expansion kapacity

S zrychleným uspořádáním energetických sítí UHV, vývojem nových motorů energetických vozidel na vysokou hustotu výkonu a prohloubení letecké technologie, poptávka po špičkovém konciIzolační papír PMPexplodoval. Podle údajů z čínské asociace izolačních materiálů v posledních třech letech překročila míra růstu složeného růstu trhu s domácím izolačním filmem 18% a existuje obrovský prostor pro domácí substituci. Domácí přední výrobci, jako je Ruihuatai a Times Nové materiály, zrychlují expanzi výroby a technologický výzkum, aby narušili zámořský monopol ve špičkových oblastech, jako je odolnost proti koroně a tepelná vodivost.